一种触发式点火半导体桥芯片的制作方法

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一种触发式点火半导体桥芯片的制作方法
申请号:CN202410954688
申请日期:2024-07-17
公开号:CN118776399A
公开日期:2024-10-15
类型:发明专利
摘要
一种触发式点火半导体桥芯片的制作方法,属于火工品技术领域。结构包括:硅衬底,桥区,重掺杂多晶硅,金属电极层。方法包括:(1)多晶硅厚度的确定方法;(2)解决光刻胶锯齿的方法;(3)超厚多晶硅厚度的刻蚀方法;(3)超厚金属电极层的刻蚀方法。解决了现有SCB火工品H桥中难以实现超厚多晶硅薄膜、超厚金属电极层刻蚀困难的问题。可广泛应用于SCB火工品火半导体桥芯片的制备中。
技术关键词
半导体桥芯片 多晶硅厚度 金属碳化物纳米粒子 金属硫化物纳米粒子 光刻胶 金属氧化物纳米粒子 光刻曝光 底部抗反射涂层 金属纳米粒子 显影液 金属电极层 顶部抗反射涂层 表面涂布 金属氮化物 刻蚀方法 碱性刻蚀液