应用于光电半导体硅片的退火温度控制方法
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应用于光电半导体硅片的退火温度控制方法
申请号:
CN202411659313
申请日期:
2024-11-20
公开号:
CN119179354B
公开日期:
2025-02-25
类型:
发明专利
摘要
本申请涉及温度控制技术领域,具体涉及一种应用于光电半导体硅片的退火温度控制方法。所述方法包括:对所述光电半导体硅片在退火过程中的温度数据进行预处理,获取温度预处理数据集;根据所述温度预处理数据集,获取温度隶属度函数;根据所述温度隶属度函数,对所述光电半导体硅片的退火温度进行模糊控制。本申请利用模糊PID控制算法能够克服调节信号非线性波动的问题,提高光电半导体硅片退火温度控制的精确度和实时性,从而提高半导体器件的性能和可靠性。
技术关键词
隶属度函数
温度控制方法
模糊控制系统
硅片
数据
光电
特征值
模糊规则库
稳态
模糊推理规则
PID控制算法
温度控制技术
误差
聚类
坐标系
半导体器件
非线性
加热器