一种基于运动补偿模型的投影光刻机掩膜预对准方法

本发明公开了一种基于运动补偿模型的投影光刻机掩膜预对准方法，属于光刻领域。本发明首先建立了掩膜台运动补偿模型，补偿R轴移动带来的旋转偏差以及X、Y方向上的位移误差。接着，基于预对准图像算法获取对准标记的精确坐标，并结合运动补偿模型驱动伺服电机，使掩膜台沿X、Y和R方向进行相应的调整，最终进入对准位置。本发明通过对掩膜台运动的精确控制，确保了掩膜的预对准精度，有效提高了掩膜与硅片对准的整体精度，进而提升了光刻工艺的稳定性和可靠性。本发明在降低对准误差的同时，提高了光刻工艺的生产效率，具有广泛的工业应用前景。