一种打印过程中基底位置误差补偿的异层定位补偿方法
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一种打印过程中基底位置误差补偿的异层定位补偿方法
申请号:
CN202510698765
申请日期:
2025-05-28
公开号:
CN120620899A
公开日期:
2025-09-12
类型:
发明专利
摘要
本发明公开了一种打印过程中基底位置误差补偿的异层定位补偿方法,包括以下步骤:步骤一、设备准备;步骤二、首次打印与基准设定;步骤三、基底处理与二次放置;步骤四、特征点识别与选取;步骤五、偏差计算;步骤六、图形补偿;步骤七、二次打印;本发明实现非接触式、高精度的异层图形对齐补偿,精度可达微米级。降低对机械平台精度的依赖,节约设备成本。算法简洁高效,适于集成于现有视觉系统及打印软件中。支持多层、多角度、高密度图形的连续打印,提高制造良率。通用性强,可适用于其他需要定位的领域。
技术关键词
定位补偿方法
位置误差补偿
基底
坐标
视觉识别系统
特征点识别
视觉系统
机器视觉算法
打印设备
偏差
集成视觉
直线段
延长线
两点
校准
边缘检测
非接触式
像素