一种基于深度学习的激光直写套刻精度提升方法

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一种基于深度学习的激光直写套刻精度提升方法
申请号:CN202510868958
申请日期:2025-06-26
公开号:CN120610448A
公开日期:2025-09-09
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种基于深度学习的激光直写套刻精度提升方法,属于微细加工光学技术领域,包括:进行主、副游标,标准十字标记和缺陷十字标记的设计;进行版图生成与激光直写数据处理;基于数据处理结果通过激光直写系统完成缺陷十字标记与主游标加工;通过激光直写系统完成缺陷十字标记识别与副游标加工;完成主、副游标套刻误差测量;基于所测量的主、副游标套刻误差实验数据集训练神经网络模型;基于神经网络模型预测待加工图形的套刻误差;根据预测待加工图形的套刻误差补偿并调整待加工图形的位置坐标。本发明可以有效提高套刻对准精度。
技术关键词
精度提升方法 激光直写系统 套刻误差 训练神经网络模型 标记 计算机图像处理技术 显微镜 套刻工艺 坐标 深度学习模型 识别缺陷 对准误差 匀胶 基片 光刻设备 版图 光刻工艺