垂直微镜结构的光计算芯片及其晶圆级智能制造方法

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垂直微镜结构的光计算芯片及其晶圆级智能制造方法
申请号:CN202511187709
申请日期:2025-08-25
公开号:CN120751758B
公开日期:2025-11-18
类型:发明专利
摘要
本发明公开了垂直微镜结构的光计算芯片及其晶圆级智能制造方法,该光计算芯片包括若干光调制器和若干量子逻辑门,基于垂直微镜设置光调制器中的干涉光路,从而实现光调制;量子逻辑门通过垂直微镜设置的反射镜构建稳定光路,利用分束器实现干涉,并由目标光路入口或出口的波片执行哈达玛变换,从而实现光计算;采用深沟槽分束器或深墙分束器作为分束器,深墙分束器中硅墙垂直于衬底的两个侧壁设置成预定夹角,深沟槽分束器通过如下方式制造:在单晶硅晶圆的表面进行光刻出深沟槽的图形;用深刻蚀方法刻出具有预定角度的深沟槽并进行侧壁平滑;在深沟槽中沉积光学薄膜;光刻并深刻蚀出深沟槽分束器的外形并侧壁平滑;在垂直侧壁生长光学增透膜。
技术关键词
垂直微镜 分束器 深刻蚀方法 光调制器 光学增透膜 聚焦离子束刻蚀 布线版图 金属光栅结构 深沟槽 单晶硅 闪耀光栅 芯片 稳定光路 逻辑门 光刻 铣削功能 光电集成系统 预定夹角 分光元件