一种光场3D显示摩尔纹仿真与抑制方法
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一种光场3D显示摩尔纹仿真与抑制方法
申请号:
CN202511196738
申请日期:
2025-08-26
公开号:
CN120779591A
公开日期:
2025-10-14
类型:
发明专利
摘要
本发明提出一种光场3D显示摩尔纹仿真与抑制方法,所述方法包括:建立光场3D显示器仿真模型,仿真微透镜阵列在不同旋转角度下的摩尔纹,频域分析得到最优旋转角度。本发明通过仿真微透镜阵列在不同旋转角度下产生的摩尔纹,利用二维快速傅里叶变换计算这些摩尔纹的高频能量占比,从而精确得到抑制摩尔纹的最优旋转角度,能够为无摩尔纹的高清晰光场3D显示屏研制提供有效解决方法。
技术关键词
微透镜阵列
二维快速傅里叶变换
仿真模型
坐标系
像素排布方式
显示屏参数
颜色
显示器
索引
尺寸
定义
图像
矩阵
频率