光栅耦合器及其制备方法

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光栅耦合器及其制备方法
申请号:CN202511216229
申请日期:2025-08-28
公开号:CN120802426A
公开日期:2025-10-17
类型:发明专利
摘要
本发明涉及一种光栅耦合器及其制备方法,涉及硅基光电子芯片技术领域,该光栅耦合器包括了基底以及位于基底的一侧的波导层,该波导层包括光栅区,在波导层的远离基底的一侧设置有超表面结构。该超表面结构可以对入射光进行相位调控,从而调整不同波长的入射光的入射角度。光栅区的波导层的折射率是周期性变化的,其可以通过布拉格散射效应将入射光耦合进入波导层中。光栅区的耦合角度和入射光的波长相关,设置超表面结构可以调整不同波长的入射光的入射角度,使整个波段范围内的入射光都更接近布拉格衍射的适宜耦合角度,从而提升光栅耦合器的光学带宽。
技术关键词
光栅耦合器 超表面结构 波导 基底 微结构 包覆层 硅基光电子芯片 布拉格 波长 周期性 间距 柱状 效应 环状 阵列