一种基于多参数协同调控的西甜瓜移栽机具栽植深度优化控制方法

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一种基于多参数协同调控的西甜瓜移栽机具栽植深度优化控制方法
申请号:CN202511255397
申请日期:2025-09-04
公开号:CN120972569A
公开日期:2025-11-18
类型:发明专利
摘要
本发明涉及调控优化技术领域,具体涉及一种基于多参数协同调控的西甜瓜移栽机具栽植深度优化控制方法,包括通过多频段介电常数传感器采集土壤硬度值,经小波包分解剔除机具振动噪声分量;采用近红外‑可见光双光谱成像获取秧苗子叶高度与根系舒展度,输出秧苗形态系数;通过MEMS惯性单元测量栽植器俯仰角及垂直加速度,生成姿态补偿量;基于土壤硬度值、秧苗形态系数、姿态补偿量,通过模糊规则库动态计算栽植深度修正量;将栽植深度修正量叠加至预设基准深度,输出液压缸位移控制量;根据液压缸位移控制量驱动电液比例阀,实时调节栽植器入土角度与压力。本发明提升栽植一致性与适应性,避免因地况差异导致的苗体浮栽或压埋问题,提高成苗率。
技术关键词
优化控制方法 移栽机具 西甜瓜 介电常数传感器 多参数 模糊规则库 电液比例阀 入土角度 近红外成像系统 调控优化技术 多频段 液压缸 光谱成像 互补滤波算法 振动噪声 形态 舒展 复介电常数 可见光相机