基于离子注入的硅基图像传感器及其制备方法

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基于离子注入的硅基图像传感器及其制备方法
申请号:CN202511382235
申请日期:2025-09-25
公开号:CN120882123A
公开日期:2025-10-31
类型:发明专利
摘要
本发明属于半导体制造技术领域,涉及一种基于离子注入的硅基图像传感器的制备方法。本发明通过离子注入的方式将离子注入光电二极管内,有利于形成表面结构复杂的光学调控结构。制备过程中通过热处理形成的稳定的光学调控结构,能够避免因蚀刻制程中因表面态及表面缺陷危害而带来的暗电流,有利于提升图像传感器芯片的电学特性。由于光电二极管与光学调控结构的折射率不同,因此光线一旦进入光学调控结构后,光学调控结构会起到聚光的作用;此外,光线经过光学调控结构后会发生反射,起到增加光程的作用,能够提升光在光电二极管中的响应,尤其能够提升近红外光在光电二极管中的响应,提升图像传感器的光电转换效率。
技术关键词
光学调控结构 光电二极管 硅基图像传感器 格挡结构 离子 深沟槽隔离结构 热处理 图像传感器芯片 制作深沟槽 通道 光电转换效率 蚀刻制程 暗电流 二氧化硅 红外光 光程 半导体 聚光