一种考虑铺层工艺的铺层库优化方法
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一种考虑铺层工艺的铺层库优化方法
申请号:
CN202511511602
申请日期:
2025-10-22
公开号:
CN120974958A
公开日期:
2025-11-18
类型:
发明专利
摘要
本申请涉及一种考虑铺层工艺的铺层库优化方法,涉及计算机仿真技术的领域,其主要包括以下步骤:步骤S1、通过交互界面对优化目标、设计变量以及设计约束进行定义,所述优化目标包括铺层库目标与单个铺层目标,所述设计变量包括铺层的铺覆层数、不同铺层的铺覆范围、不同铺层的铺覆角度以及不同角度铺层的铺覆顺序,所述设计约束包括铺层约束与结构约束;步骤S2、通过多参数优化求解器基于底层优化方法对设置的优化目标、设计变量以及铺层约束进行求解;步骤S3、输出优化结果。
技术关键词
铺层工艺
结构单元
结构有限元模型
计算机仿真技术
编码
变量
多参数
代表
扭转刚度
覆层
应力
平板
队列
弯曲
单层
中间层
界面
连续性
定义